CralSi Alloy Sputtering Target Film tana fìor-ghlan Còmhdach Pvd air a dhèanamh gu sònraichte

Tha saothrachadh Targaidean Sputtering Chronium Aluminium Silicon a’ toirt a-steach na ceumannan a leanas:
1.Vacuum leaghadh de Silicon, Aluminium agus Chronium a bhith a 'faighinn ceum alloys.
2.Powder a 'bleith agus a' measgachadh.
Làimhseachadh brùthaidh isostatic 3.Hot gus an targaid sputtering alloy chromium Aluminium silicon fhaighinn.
Thathas a’ cleachdadh Targaidean Sputtering Chronium Aluminium Silicon gu mòr ann a bhith a’ gearradh innealan agus molltairean, air sgàth cho làidir ‘s a tha e caitheamh agus an aghaidh oxidation aig teòthachd àrd gus coileanadh film a leasachadh.
Bhiodh ìre Si3N4 amorphous air a chruthachadh rè pròiseas PVD de thargaidean CralSi.Mar thoradh air a bhith a ’toirt a-steach ìre Si3N4 amorphous, dh’ fhaodadh fàs meud gràin a bhith air a chumail suas agus leasachadh a dhèanamh air seilbh an aghaidh oxidation teòthachd àrd.